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靶室系統
一、設備用途：本系統為單室高真空靶室系統。二、設備主要技術指標：1、真空室：不銹鋼材料，立式圓筒型結構，內部尺寸約：φ250×400（mm）；2、材料選擇適合UHV要求不銹鋼等材料，并對材料真空除氣。3、極限真空度：≤6.7×10-7mbar（甲方自測）；??系統總體漏率：1×10-7PaL/S；???????????????????4、系統支架采用型鋼焊接結構，開放式結構，底部安裝金屬腳輪，既可
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一、設備用途：本系統為單室高真空靶室系統。
二、設備主要技術指標：
1、真空室：不銹鋼材料，立式圓筒型結構，內部尺寸約：φ250×400（mm）；
2、材料選擇適合UHV要求不銹鋼等材料，并對材料真空除氣。
3、極限真空度：≤6.7×10-7mbar（甲方自測）；
系統總體漏率：1×10-7PaL/S；
4、系統支架采用型鋼焊接結構，開放式結構，底部安裝金屬腳輪，既可以移動，又可調整高度；臺架內部安裝分子泵等；
5、靶室正中心的位置距離地面高度為100cm；
6、靶室采用上蓋開啟結構（螺栓固定連接），真空室上蓋同真空室采用無氧銅圈密封，CF250法蘭接口。
7、整套系統全部無氧銅圈密封。
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