實(shí)驗(yàn)平臺(tái)靶室系統(tǒng)
一、系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)及設(shè)計(jì)要求：1、整體結(jié)構(gòu)：三個(gè)真空室串聯(lián)結(jié)構(gòu)，通過軟連接（波紋管）和閥門連接；每個(gè)真空室都是立式圓柱形結(jié)構(gòu)，不銹鋼材料（304）；每個(gè)真空室都帶有光學(xué)面板，真空室和光學(xué)面板分別獨(dú)立支撐，光學(xué)面板與真空室間連接密封采用焊接波紋管組件，達(dá)到減震效果；真空室安裝于主臺(tái)架上，主臺(tái)架跨過光學(xué)平臺(tái)支撐于地面上；光學(xué)面板支撐于光學(xué)平臺(tái)上；真空室1和真空室2的上方蓋板采用厚有機(jī)玻璃；真空室3的上方
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一、系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)及設(shè)計(jì)要求：
1、整體結(jié)構(gòu)：三個(gè)真空室串聯(lián)結(jié)構(gòu)，通過軟連接（波紋管）和閥門連接；每個(gè)真空室都是立式圓柱形結(jié)構(gòu)，不銹鋼材料（304）；
每個(gè)真空室都帶有光學(xué)面板，真空室和光學(xué)面板分別獨(dú)立支撐，光學(xué)面板與真空室間連接密封采用焊接波紋管組件，達(dá)到減震效果；
真空室安裝于主臺(tái)架上，主臺(tái)架跨過光學(xué)平臺(tái)支撐于地面上；光學(xué)面板支撐于光學(xué)平臺(tái)上；
真空室1和真空室2的上方蓋板采用厚有機(jī)玻璃；真空室3的上方蓋板為不銹鋼板。
2、真空度及漏率要求：
真空室1：無氣體負(fù)載時(shí)<10-6mbar，有氣體負(fù)載時(shí)<10-3mbar；
真空室2：<10-6mbar；
真空室3：進(jìn)入10-7mbar；
系統(tǒng)漏率：<5×10-7Pa.L/s（氦質(zhì)譜檢漏儀）。
3、真空室尺寸：真空室1和2的內(nèi)徑為φ50cm，光學(xué)面板φ48cm；
真空室3的內(nèi)徑為φ21cm，光學(xué)面板為φ20cm；
4、真空腔間法蘭連接方式：采用圓形大法蘭轉(zhuǎn)接通光孔小法蘭連接，方便設(shè)備后期實(shí)驗(yàn)改造；
5、密封形式：氟橡膠圈、無氧銅圈；
6、真空室及管道的焊接：全部采用氬弧焊接，內(nèi)焊縫連續(xù)焊接，外焊縫斷續(xù)加強(qiáng)焊接；
7、真空室及管道表面處理：外表面噴砂鈍化處理，內(nèi)表面拋光處理；
8、真空室及管道清洗：按照超高真空清洗標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行清洗；
9、安裝調(diào)試：在潔凈環(huán)境下，帶絨布手套，穿潔凈的工作服，不得接觸任何油污等超高真空安裝調(diào)試標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行安裝調(diào)試；
10、設(shè)計(jì)真空室1與真空室2之間用于差分抽氣的隔斷部件（差分抽氣小孔組件）；即真空室1與真空室2之間的氣體流動(dòng)通過此小孔，并可更換；此小孔距離氣體噴嘴約為10cm，直徑為1mm；
11、分子泵與真空室連接部分有減震機(jī)構(gòu)以及各支撐臺(tái)架均帶有減震部件。
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